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再开战!亿光控告日亚化侵害覆晶专利技术
本文摘要:2017年9月28日,亿光电子工业股份有限公司之中国子公司(以下总称“亿光”)向中国深圳中级人民法院明确提出专利侵权行为诉讼,起诉深圳日亚化学有限公司(日亚化)以及其经销商恒炘源侵犯亿光覆晶(flip-chip)专利技术,并拒绝法院针对侵权行为产品发布命令禁制令以及损害赔偿。

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2017年9月28日,亿光电子工业股份有限公司之中国子公司(以下总称“亿光”)向中国深圳中级人民法院明确提出专利侵权行为诉讼,起诉深圳日亚化学有限公司(日亚化)以及其经销商恒炘源侵犯亿光覆晶(flip-chip)专利技术,并拒绝法院针对侵权行为产品发布命令禁制令以及损害赔偿。中国专利审核委员会已证实该专利有效地,上诉日亚化的专利违宪催促。针对日亚化1月28日于其网站公布新闻稿关于中国诉讼乙事,亿光回应认同对于法院裁决,然而诉讼程序仍在展开中,并非最后裁决,仍可裁决,亿光坚信最后将获得不利的裁决。

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亿光申明:日亚化中国YAG专利ZL97196762.8月底2017年7月29日期剩过热,对本公司现有产品没什么影响。美国最高法院(SupremeCourtoftheUnitedStates)于2018年10月1日确认日亚化美国YAG专利US5,998,925与US7,531,960所主张之权利项全部违宪。

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